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Eksma 立方體偏振分束器

簡要描述:Eksma 立方體偏振分束器
偏振片鍍在立方分光鏡的內(nèi)表面。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發(fā)生在偏離90°角的反射上。立方體偏振分光鏡可以針對特定波長進行優(yōu)化,以為激光應用提供優(yōu)良的性能。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:1164

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 立方體偏振分束器


  





偏振片鍍在立方體分光鏡的內(nèi)表面。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發(fā)生在偏離90°角的反射上。

Eksma 立方體偏振分束器

產(chǎn)品介紹

Ø耐用方便

Ø針對流行的激光波長進行了優(yōu)化

偏振片鍍在立方分光鏡的內(nèi)表面。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發(fā)生在偏離90°角的反射上。立方體偏振分光鏡可以針對特定波長進行優(yōu)化,以為激光應用提供優(yōu)良的性能。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

BK7, unmounted, 532 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0101

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0151

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0201

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0251

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, mounted, 532 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0101-M2Ps

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0151-M2P

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0201-M2P

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0251-M2P

532 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, unmounted, 633 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0104

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0154

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0204

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0254

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, mounted, 633 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0104-M2Ps

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0154-M2P

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0204-M2P

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0254-M2P

633 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, unmounted, 780 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0102

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0152

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0202

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0252

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, mounted, 780 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0102-M2Ps

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0152-M2P

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0202-M2P

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0252-M2P

780 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, unmounted, 1064 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0103

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0153

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0203

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0253

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

BK7, mounted, 1064 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-0103-M2Ps

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

10 x 10 mm

430-0153-M2P

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

15 x 15 mm

430-0203-M2P

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

20 x 20 mm

430-0253-M2P

1064 nm

Rs>99.5%

Tp>95%

25 x 25 mm

UVFS, unmounted, 288 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-1103

280 nm

Rs>99%

Tp>90%

10 x 10 mm

430-1153

280 nm

Rs>99%

Tp>90%

15 x 15 mm

430-1203

280 nm

Rs>99%

Tp>90%

20 x 20 mm

UVFS, mounted, 288 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-1103-M2Ps

280 nm

Rs>99%

Tp>90%

10 x 10 mm

430-1153-M2P

280 nm

Rs>99%

Tp>90%

15 x 15 mm

430-1203-M2P

280 nm

Rs>99

Tp>90%

20 x 20 mm

UVFS, unmounted, 308 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-1105

308 nm

Rs>99%

Tp>90%

10 x 10 mm

430-1155

308 nm

Rs>99%

Tp>90%

15 x 15 mm

430-1205

308 nm

Rs>99%

Tp>90%

20 x 20 mm

UVFS, mounted, 308 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-1105-M2Ps

308 nm

Rs>99%

Tp>90%

10 x 10 mm

430-1155-M2P

308 nm

Rs>99%

Tp>90%

15 x 15 mm

430-1205-M2P

308 nm

Rs>99%

Tp>90%

20 x 20 mm

UVFS, unmounted, 355 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-1107

355 nm

Rs>99%

Tp>90%

10 x 10 mm

430-1157

355 nm

Rs>99%

Tp>90%

15 x 15 mm

430-1207

355 nm

Rs>99%

Tp>90%

20 x 20 mm

UVFS, mounted, 355 nm

型號

波長

反射(S-POL)

透射(P-POL)

尺寸

430-1107-M2Ps

355 nm

Rs>99%

Tp>90%

10 x 10 mm

430-1157-M2P

355 nm

Rs>99%

Tp>90%

15 x 15 mm

430-1207-M2P

355 nm

Rs>99%

Tp>90%

20 x 20 mm

 

材料

BK7, UV FS

表面質量

40-20表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

表面平整度

λ/4 @ 633 nm

通光孔徑

90% of the face size

光束偏差

<3 arcmin

尺寸公差

±0.3 mm

激光損傷閾值

0.3 J/cm2
10 ns pulses at 1064 nm

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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