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Eksma 高能偏振立方體分束器

簡要描述:Eksma 高能偏振立方體分束器
高能量偏振分束器通過光學接觸以用于大功率應用。它們具有準確的表面質(zhì)量和高消光比。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:1183

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 高能偏振立方體分束器


高能量偏振分束器通過光學接觸以用于大功率應用。它們具有準確的表面質(zhì)量和高消光比。

Eksma 高能偏振立方體分束器

產(chǎn)品介紹

Ø光學接觸,適用于大功率應用

Ø典型的損壞閾值:> 15 J / cm2、10 ns,10 Hz在1064 nm下

Ø尺寸-12.7 x 12.7 x 12.7毫米

Ø精密的表面質(zhì)量

Ø高消光比

高能偏振立方分束鏡由UV FS制成,經(jīng)過優(yōu)化,可用于355、532、800、1064 nm的波長或420-680 nm和700-1080 nm的波長范圍。

立方體分束器是光學接觸的,具有高達15 J / cm2的激光損傷閾值。立方分束器的所有四個外表面均具有抗反射鍍膜。提供高能量偏振立方體,未安裝或可方便地安裝在M2P的安裝座上。

產(chǎn)品型號

未安裝的立方偏振分束器

型號

工作波長

激光損傷閾值

435-1127

355 nm

>3 J/cm2 at 355 nm

435-1121

532 nm

>6 J/cm2 at 532 nm

435-1122

800 nm

>8 J/cm2 at 800 nm

435-1123

1064 nm

>15 J/cm2 at 1064 nm

436-1121

420-680 nm

>1 J/cm2 at 532 nm

436-1123

700-1080 nm

>2 J/cm2 at 1064 nm

固定式立方偏振分光鏡

型號

工作波長

激光損傷閾值

435-1127-M2Ps

355 nm

>3 J/cm2 at 355 nm

435-1121-M2Ps

532 nm

>6 J/cm2 at 532 nm

435-1122-M2Ps

800 nm

>8 J/cm2 at 800 nm

435-1123-M2Ps

1064 nm

>15 J/cm2 at 1064 nm

436-1121-M2Ps

420-680 nm

>1 J/cm2 at 532 nm

436-1123-M2Ps

700-1080 nm

>2 J/cm2 at 1064 nm

 

材料

UV FS

尺寸

12.7 x 12.7 x 12.7 mm

尺寸公差

±0.2 mm

消光比

>1:500

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

波前畸變

λ/10 @ 633 nm

通光孔徑

>85% of size

光束偏差

<3 arcmin

反射S偏振

>99.5%

透射p偏振

>97% for laser line
>90% for broadband

激光損傷閾值

>15 J/cm2
10 ns pulses at 1064 nm

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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