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簡要描述：Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì)，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-24訪 問 量：1207詳細(xì)介紹
| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2
Eksma 薄膜偏振片（56度角）-2
分離特定波長的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值，薄膜偏振片在高能激光器的應(yīng)用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
產(chǎn)品介紹
BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì)，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2，因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。
We offer four types of thin-film polarizers:
我們提供四種類型的薄膜偏振片：
Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
代碼 | 波長 | 材料 | 偏振效率 | 消光比 | 尺寸 | ||
420-0256E | 800 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1256E | 800 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1256HE | 800 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1256UHT | 800 nm | UV FS | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1256HT | 800 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-0286 | 800 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1286 | 800 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1386 | 800 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | ||
420-0506E | 800 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-1506E | 800 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-0138E | 1010-1050 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | ||
420-1138E | 1010-1050 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | ||
420-0268E | 1010-1050 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1268E | 1010-1050 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-0298 | 1010-1050 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1298 | 1010-1050 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1398 | 1010-1050 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | ||
420-0528E | 1010-1050 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-1528E | 1010-1050 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-0118E | 1030 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | ||
420-1118E | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | ||
420-1478HE | 1030 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | 20 x 15 x 6 mm | ||
420-1248HE | 1030 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1248UHT | 1030 nm | UV FS | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1248HT | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-0248E | 1030 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1248E | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-0278 | 1030 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1278 | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1278HT | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1578HE | 1030 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | 30 x 20 x 6 mm | ||
420-1378 | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | ||
420-0518E | 1030 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-1518E | 1030 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-0128E | 1064 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | ||
420-1128E | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | ||
420-1488HE | 1064 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | 20 x 15 x 6 mm | ||
420-1258HE | 1064 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1258UHT | 1064 nm | UV FS | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1258HT | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-0258E | 1064 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1258E | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1288HT | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-0288 | 1064 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1288 | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | ||
420-1588HE | 1064 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | 30 x 20 x 6 mm | ||
420-1388 | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | ||
420-0508E | 1064 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-1508E | 1064 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | ||
420-0259E | 1550 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1269E | 1530-1570 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | ||
420-1399 | 1530-1570 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | ||
材料 | BK7, UV FS | ||||||
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) | ||||||
透射波前畸變 | λ/10 @ 633 nm | ||||||
平行性 | < 30 arcsec | ||||||
通光孔徑 | > 90% | ||||||
入射角 | 56°±2° | ||||||
直徑公差 | +0.0 -0.12 mm | ||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | ||||||
激光損傷閾值 | 10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz | ||||||
消光比Tp / Ts | >200:1 (for standard, HT and UHT series) >1000:1 (for HE series) | ||||||
BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì)，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2，因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。
We offer four types of thin-film polarizers:
我們提供四種類型的薄膜偏振片：
Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇范圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值，專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計(jì)，工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達(dá)到10 J / cm2，因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。
We offer four types of thin-film polarizers:
我們提供四種類型的薄膜偏振片：
Ø標(biāo)準(zhǔn)-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1
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